溅射靶材是指通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜设备在适当工艺条件下溅射沉积在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。溅射靶材广泛应用于装饰、工模具、玻璃、电子器件...

产品名称钛靶块 、钛锻件 、钛靶材牌号/材质TA1，TA2，TA3，TC4(Ti6AL4V)，GR1，GR2，GR3，GR5( Ti6AL4V)标准钛圆靶 ：技术条件：符合GB/T2695-1996，ASTMB348-97 钛板靶 ：技术条件：符合GB/T3621-...

溅射靶材是指通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜设备在适当工艺条件下溅射沉积在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。溅射靶材广泛应用于装饰、工模具、玻璃、电子器件...

制造的金属镀膜工艺中，日本的日矿材料公司生产高纯钛溅射靶、铜、钽、钴、钨、镍等高纯金属以及合金靶、钛硅化物靶等，供给全世界的半导体厂家。高纯溅射钛靶材主要是用做铝配...

钛溅射靶材在随着使用率的增加，表面可能会附着有残留物，如粉尘、油污、氧化物等，继而靶材表面有不同程度的结瘤，产品质量也会有所下降，导致生产成本增加。因此，需要溅射靶材进行充...